[R26BK01652947] 플라즈마 발생용 전원장치, 임피던스 정합장치

규 격 서 (구매, 제조․제작 요청용)
요청 내역
품명 플라즈마 발생용 전원장치, 임피던스 정합장치 모델 APG-1013H 1ea, AGL-1204 1ea, AQC1013 1ea, AFC2004 1ea 추정금액 (부가세 포함) 55,500,000 원 기본 구성 사양 (세부 규격) 플라즈마 발생용 전원장치 1 구동 주파수: 13.56 MHz 최대출력파워: 1000W Variable Frequency 기능 (12.882 MHz ~ 14.238 MHz) 출력저항: 50 옴 고속 주파수 매칭 (150 μs 이내) Arc detection (5 μs 이내) Two-Level Pulsing 플라즈마 발생용 전원장치 2 구동 주파수: 430 kHz 최대출력파워: 1200W Variable Frequency 기능 (400 kHz ~ 460 kHz) 출력저항: 50 옴 고속 주파수 매칭 (150 μs 이내) Arc detection (5 μs 이내) Two-Level Pulsing 임피던스 정합장치 1 주파수: 13.56 MHz 최대파워: 1000 W 매칭회로: Standard “L” type 가변 커패시터 매처 출력부 V, I, Phase, Duty, Vpp, Pulsing frequency 측정 기능 임피던스 정합장치 2 주파수: 430 kHz 최대파워: 2000 W 매칭회로: Standard “T” type 가변 커패시터 매처 출력부 V, I, Phase, Duty, Vpp, Pulsing frequency 측정 기능 기타(유의) 사항 ○ 구매 대상 장비 4대는 각각 독립적인 시스템으로 구축되어야 하며, 장비별로 개별적인 운영 및 활용이 가능해야 함 ○ 하자보증기간: 1년 ○ 호환성이 보장되는 동등 사양 이상 제품 제안 가능
납품 관련 사항 납기 완료 요구일
2026. 11. 20. 납품 장소 군산 플라즈마기술연구소 본관동 L203호
문의처 물품 관련 사항
플라즈마데이터그룹 063-440-4243, [email protected]
구매 사유 및 활용 용도 연구 목표 중 하나인 플라즈마 데이터베이스 구축에서, 식각 공정 및 소재 내플라즈마 공정에서의 데 소재 내플라즈마 평가 장치 개발 및 이에 따른 공정 환경에서의 플라즈마 데이터베이스 구축을 위해 플라즈마를 발생시키고 고주파 전원장치와 플라즈마 발생원 사이에 임피던스를 정합하는 임피던스 정합장치. 또한 식각 공정 및 소재 내플라즈마 공정에 요구되는, 전극에 바이어스 전력을 인가할 수 있는 고주파 전원장치 2ea 및 임피던스 정합장치. 2ea 구매 (구매 대상 장비 4대는 각각 독립적인 시스템으로 구축되어야 하며, 장비별로 개별적인 운영 및 활용이 가능해야 함)