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[R26BK01779249] 한림대학교 첨단반도체소부장 인재양성 부트캠프 사업단 진공증착기 납품 업체 선정

[물품] 발주기관: 한림대학교 산학협력단 계약방법: 일반경쟁 추정가격: 8300만원 입찰일시: 2026-10-29 10:00
#물품
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===== 1. 입찰공고문.hwp =====
입 찰 공 고 문

본 입찰은 국가전자조달시스템인 나라장터(www.g2b.go.kr)에서 실시합니다.

1. 입찰개요

가. 입 찰 명 : 한림대학교 첨단반도체소부장 인재양성 부트캠프 사업단 진공증착기 납품 업체 선정

나. 예
산 : 91,300,000원(VAT포함)

다. 입찰 개요 : 1단계 규격제출 1단계 규격평가 투찰기간 개찰 ‘26. 10. 27.(화) 11:00까지 ‘26. 10. 28.(수)

‘26. 10. 29.(목)~‘26. 11. 2.(월)

14:00까지 ‘26. 11. 2.(월) 15:00이후 라. 입찰품목 및 수량 : 규격서 참조

2. 입찰방법 : 2단계경쟁입찰(모집공고일로부터 현재 아래 조건을 충족할 수 있는 업체)

가. 입찰공고일 기준으로 등록취소, 휴업, 업무정지나 기타 행정관청의 행정처분을 받지 아니한 업체

나. 1단계 규격평가 후 80점 이상 득한 업체에 한해서 투찰자격을 줌.

3. 낙찰자 결정 방법

가. 1단계 규격 평가를 통과한 업체 중 예정가격 이하 최저가격을 제안한 업체

나. 26년 12월 31일 이전 까지 납품 가능한 업체

4. 전자입찰보증금 납부

가. 입찰금액의 5/100 이상에 해당하는 입찰 이행보증보험증권을 입찰등록 마감 시까지 납부하여야 함.

나. 낙찰자가 소정의 기일내에 계약을 체결하지 않을 경우 입찰보증금은 본교에 귀속됨.

5. 1단계 규격평가 제출서류

가. 업체실적평가 1부 ※ 납품실적리스트 (실적 증빙서류 : 계약서 사본, 세금계산서 등)

나. 업체기업신용도평가등급 1부

다. 물품규격서 및 물품세부내역서(제안 모델명 명시) 1부

라. 사업자등록증 1부

마. 제안요약서(평가표 확인 후 1~2장으로 작성) 1부

※ 제출서류

6. 전자입찰시 첨부서류(나라장터) 가. 견적서(업체 고유양식) 1부.

나. 입찰(이행)보증보험증권 한림대학교 5%(221-82-10284 대표자 강일준)

7. 입찰의 무효 : 국가를 당사자로 하는 계약에 관한 법률 시행규칙 제44조의 규정에 의함.

8. 유의사항

가. 본 입찰은 각종 경비 및 부가세 등을 포함한 총액 입찰임.

나. 본 입찰은 전자입찰로서, 전자조달시스템(나라장터(www.g2b.go.kr))를 통해 투찰하여야 하며, 미가입 업체는 먼저 나라장터에 가입을 한 후, 입찰참가등록서류를 모두 스캔하여 첨부하고 입찰참가등록을 하여야 함.

다. 입찰참가자는 본교 홈페이지 및 전자조달시스템(나라장터(www.g2b.go.kr))에 등록되어 있는 물품구매 입찰유의서, 물품구매 계약일반조건, 기타 계약조건 및 물품규격서 등 입찰에 관련된 모든 사항을 숙지하고 입찰에 참가하여야 함.

라. 규격서 및 전자입찰 참가 의문사항은 구매요구자에게 확인 후 응찰하시기 바라며, 이를 숙지하지 못한 책임은 응찰자에게 있으며, 입찰 등록을 필한 자는 모든 조건을 숙지하고 수락한 것으로 봄.

마. 우편입찰은 허용하지 않으며, 기타 입찰에 관한 문의사항은 한림대학교 구매관재팀(033-248-1171) 또는 나라장터 입찰공고(www.g2b.go.kr)를 규격문의 사항은 첨단산업 인재양성 부트캠프 사업단 (033-248-3572)으로 연락하시기바람니다.

2026년 10월 19일 한 림 대 학 교

===== 1. 입찰공고문.pdf =====
입 찰 공 고 문
본 입찰은 국가전자조달시스템인 나라장터(www.g2b.go.kr)에서 실시합니다.

1. 입찰개요
가. 입 찰 명 : 한림대학교 첨단반도체소부장 인재양성 부트캠프 사업단 진공증착기 납품 업체 선정
나. 예

산 : 91,300,000원(VAT포함) 다. 입찰 개요 : 1단 계 규 격 제 출 1단 계 규 격 평 가 투찰기간 개찰

‘26. 10. 27.(화 )
11:00까 지

‘26. 10. 28.(수 )

‘26. 10. 29.(목)~‘26. 11. 1.(월)
14:00까지

‘26. 11. 1.(월)
15:00이후

라. 입찰품목 및 수량 : 규격서 참조
2. 입찰방법 : 2단계경쟁입찰(모집공고일로부터 현재 아래 조건을 충족할 수 있는 업체)
가. 입찰공고일 기준으로 등록취소, 휴업, 업무정지나 기타 행정관청의 행정처분을 받지 아니한 업체
나. 1단계 규격평가 후 80점 이상 득한 업체에 한해서 투찰자격을 줌.
3. 낙찰자 결정 방법
가. 1단계 규격 평가를 통과한 업체 중 예정가격 이하 최저가격을 제안한 업체
나. 26년 12월 31일 이전 까지 납품 가능한 업체
4. 전자입찰보증금 납부
가. 입찰금액의 5/100 이상에 해당하는 입찰 이행보증보험증권을 입찰등록 마감 시까지 납부하여야 함.
나. 낙찰자가 소정의 기일내에 계약을 체결하지 않을 경우 입찰보증금은 본교에 귀속됨.
5. 1단계 규격평가 제출서류
가. 업체실적평가 1부 ※ 납품실적리스트 (실적 증빙서류 : 계약서 사본, 세금계산서 등)
나. 업체기업신용도평가등급 1부
다. 물품규격서 및 물품세부내역서(제안 모델명 명시) 1부
라. 사업자등록증 1부
마. 제안요약서(평가표 확인 후 1~2장으로 작성) 1부
※ 제출서류


6. 전자입찰시 첨부서류(나라장터)
가. 견적서(업체 고유양식) 1부.
나. 입찰(이행)보증보험증권 한림대학교 5%(221-82-10284 대표자 강일준)

7. 입찰의 무효 : 국가를 당사자로 하는 계약에 관한 법률 시행규칙 제44조의 규정에 의함.
8. 유의사항
가. 본 입찰은 각종 경비 및 부가세 등을 포함한 총액 입찰임.

나. 본 입찰은 전자입찰로서, 전자조달시스템(나라장터(www.g2b.go.kr))를 통해 투찰하여야 하며, 미가
입 업체는 먼저 나라장터에 가입을 한 후, 입찰참가등록서류를 모두 스캔하여 첨부하고 입찰참가등
록을 하여야 함.
다. 입찰참가자는 본교 홈페이지 및 전자조달시스템(나라장터(www.g2b.go.kr))에 등록되어 있는 물품구매
입찰유의서, 물품구매 계약일반조건, 기타 계약조건 및 물품규격서 등 입찰에 관련된 모든 사항을 숙
지하고 입찰에 참가하여야 함.
라. 규격서 및 전자입찰 참가 의문사항은 구매요구자에게 확인 후 응찰하시기 바라며, 이를 숙지하지
못한 책임은 응찰자에게 있으며, 입찰 등록을 필한 자는 모든 조건을 숙지하고 수락한 것으로 봄.
마. 우편입찰은 허용하지 않으며, 기타 입찰에 관한 문의사항은 한림대학교 구매관재팀(033-248-1171)
또는 나라장터 입찰공고(www.g2b.go.kr)를 규격문의 사항은 첨단산업 인재양성 부트캠프 사업단
(033-248-3572)으로 연락하시기바람니다.

2026년 10월 19일 한 림 대 학 교

===== 2. 규격서.pdf =====
RF Sputter 규격서
가.장비 특성 및 품질
본 RF 마그네트론 스퍼터링 시스템은 고진공 환경에서 플라즈마 스퍼터링 효과 를 이용하여 광소자, 전
력반도체소자, 센서소자 및 미세 전기기계시스템(MEMS) 소자용 산화물반도체, 투명전극, 센서 감지층 및
전극 등 다양한 반도체, 금속 및 세라믹 박막을 증착하는 장비이다.

나.상세규격
가) Specification
1. 기본적으로 각 제품의 부품들은 아래에 명시된 각 부품의 상세 사양과 동등 이상으로 공급하여야
한다.
2. 본 장비를 이용한 공정조건은 다음을 만족해야 한다.
1) 4인치 웨이퍼를 이용해 테스트를 진행한다.
2) 3가지 다른 소스를 이용하여 각각 50nm 두께를 성막 후 ±1% 내 균일도를 가져야한다.
3) 샘플 기판 가열 기능을 이용 시 최고 도달 온도는 800℃이며 Uniformity는 4“ Wafer 기준
700±2℃를 만족해야 한다.
4) 산화물 Target의 경우 Power 250W 인가하여 1시간 공정시 Target에 크랙 현상이 없어야 하며,
공정에 필요시 증착된 물질이 결정구조를 형성할 수 있어야 한다.
5) 메인챔버의 최고 도달 진공도는 5x10-7 Torr이하여야 한다.

나)Performance
A.Process System ---------------------- 1Sys
1 . Process Chamber -------------------1set
a) Material: Stainless Steel (SUS304)
b) Size: Ф400×270mm(H), Inside
c) Type: Cylindrical, Pneumatic Up-Down Door
d) Chamber Ports

  • High Vacuum Pumping Port: DN160, 1ea
  • Roughing Line Port: NW25, 1ea
  • Foreline Port: NW25, 1ea
  • Substrate Port, 1ea
  • Gauge Ports: NW25, 2ea
  • View Port, 1ea
  • Venting Port, 1ea
  • Gun Shutter Port, 3ea
  • Main Shutter Port, 1ea
  • Sputter Gun Port, 3ea
  • T/C Sensor Port, 1ea
  • Heater Power Feedthrough port, 1ea

2.Vacuum Pumping System
a) High Vacuum Turbo Pump ------------ 1set

  • Size: DN160
  • Pumping Speed: >800 ℓ/sec for N2
  • AC 220V, 60Hz, 1 Phase

b) High Vacuum Gate Valve ---------- 1set
  • Size: DN160
  • Type: Pneumatic

c) Roughing Valve ---------- 1set
  • Size: NW25
  • Type: Pneumatic

d) Foreline Valve ---------- 1set
  • Size: NW25
  • Type: Pneumatic

e) Venting Valve, 1set
  • Size: 1/4" VCR
  • Type: Pneumatic

f) Vacuum Gauge ------------ 1set
  • Pirani, Ion Gauge Sensor & Controller, 1set
  • Range: ATM ~ 10-9 Torr

g) Fore Line & by Pass Line ------------- 1식
h) Rotary Vane Vacuum Pump, 1set
  • Pumping Speed: 600 ℓ/min
  • Direct Drive

3.Substrate & Rotation Manipulator ------------1unit
  • Size: 4“ wafer 장착
  • Rotation Speed: 0∼30rpm with magnatic fluid seal(AC Speed Control Motor)

4 .Wafer Heating Unit ---------------1unit
  • Heating Range: 100~800℃
  • Uniformity: 700℃±2℃ in 4“ Wafer
  • Temperature control

5.Gas Supply unit ---------------1unit

  • MFC: Ar 100sccm, O2 20sccm, N2 100sccm
  • Controller(3 channel)
  • Gas Stop Valve
  • VCR Type Gas Fitting & Tube

6.Magnetron Sputter Gun --------3set

  • 3" Dia magnetron sputter gun
  • R.F Shield & Target holder
  • N Type power connector

7.RF Power Supply ----------2set

  • Maximum output power: 300W
  • Frequency: 13.56MHz
  • Auto Matching circuit
  • Accessories: Cable, Connector(Silver plated)

8.Shutter unit --------- 4unit
  • type: Pneumatic
  • 90° Rotation, Fluid Magnetic Rotation Seal

9.Auto Pressure Control unit -------- 1unit

  • Pressure Controller
  • Throttle Valve(DN160)
  • Capacitance Manometer, 0.1Torr

B.System Controller--------------1 sys
  • Control type: PC & PLC
  • Auto Pumping, Deposition Process, Venting
  • Full auto proㅇcess control by recipe
  • Safety interlock for electric, compressed air, cooling water, pumps and valves

C.System Frame & Utility ------------- 1식

  • Iron be painted by ivory color.
  • Water & Air Pressure switch
  • Emergency switch
  • Main Power: 220V, 30A, 3phase
  • Water: 1~2kgf/㎠, Φ12mm Hose
  • Air: 5~6kgf/㎠, Φ6mm Hose
  • Gas: 1~2kgf/㎠, Φ1/4 SUS Tube

다. 구성품 (악세사리 포함)
1. Process Chamber

  • 공정을 진행하기 위해 진공분위기를 만들고 공정을 진행하기 위한 장치를 설치 하도록

꾸며진 SUS Metal Box.
2. Pumping System

  • Chamber 내부를 진공의 분위기로 만들어 주기 위한 장치로서 Rotary Pump, Turbo Pump,

Valve류, 진공 측정 장치로 이루어진다.
3. Substrate Unit
  • Wafer를 장착하기 위한 장치이며, 공정중 Rotation, Heating이 가능하다.

4.Gas Supply unit
  • 공정 시 Plasma발생시켜 이온을 이용하여 Target을 Sputtering하기 위해 Gas를 넣어주는 장치로서

MFC 및 Readout Box, Gas stop Valve, Gas Line으로 이루어진다.
6.Power Supply
  • Sputter Gun에 Power를 가해 Plasma를 발생 시키고 Target을 Sputtering하기 위한

장치로서 전도성 물질, 비전도성 물질을 증착하기 위한 RF Power로 이루어진다.
7.Magnetron Sputter Gun
  • Gun에 Target을 장착하여 Sputtering을 하기 위한 주 장치이다.

8.Shutter unit
  • Sputtering 공정을 진행하지 않을 시 Target오염을 방지하기 위한 Sputter Gun Shutter와

증착 시 Substrate에 증착되는 물질을 제어하기 위한 Main Shutter로 구성된다.
9.Pressure Control Unit
  • Sputtering 공정시 일정한 압력조건을 유지하기 위한 장치로서 압력을 측정하는 Baratron

Sensor, Pumping Speed를 제어하는 Throttle Valve, 압력 값을 읽어 들여 Throttle Valve
를 제어하는 Pressure Controller로 구성된다.
10. System Controller
  • 위의 장치들을 Control 하기 위한 장치로서 Control뿐만 아니라 안전을 위한 Safty Interlock

및 Utility 제어를 포함한다.
10. Frame and Utility
  • 공정쳄버를 올려 놓고 고정하며 시스템을 제어하기 위한 Water, Air, Power등 Utility등을 설치하는

장치.

라. 장비설치 및 검수

  • 장비 설치 및 조정

장비 공급자는 한림대학교내 지정하는 장소에 장비를 설치하고 정상 작동을 위해 아래에
요구되는 모든 조건 및 공정 결과를 충족하여야 한다.

마. 교육훈련

  • 납품/설치 후 2년간 장비와 관련된 교육은 구매자의 요구가 있을시 무상으로 실시한다.
  • 반도체공정, 나노공정 등 박막공정을 교육하는 학과 교과목의 실습을 지원한다. (1과목/학기)
  • 다음과 같은 교육은 별도의 협의가 없어도 필수적으로 수행되어야 한다.

* 장비 작동법 교육
* 유지보수 교육
* 프로그래밍 교육

바. 하자보증

  • 장비의 하자보증 기간은 납품후 2년으로 한다.
  • 하자보증 기간 중 정상적인 작동 상태에서 발생하는 모든 결함은 장비 공급자의 책임 하에

무상으로 수리되어야 한다.
  • 공급자는 장비의 소모품 판매, 취급 및 장비의 원활한 유지관리에 협조하여야 한다.
  • 공급자는 납품완료 이전에 발생한 하자 또는 장애(이하“하자”)를 포함하여 하자보증기간에 발생한

일체의 물품하자에 대하여 이를 무상으로 조속히 보수하여 정상 가동상태로 복귀시켜야 한다.
  • 하자보증기간이 경과 후에도 지속적인 교육운영과 장비 유지보수를 위한 필요부품을 보유하고 있어

야하며, 장비사용자의 요청에 의해 1주일이내 실비로 납품 또는 보수할 수 있도록 준비하여야 한다.

사. 납기

  • 계약일로부터 30일 이내

아. 기타사항
본 계약에 정하지 아니한 사항이나 본 계약 후 오류나 애매한 사항이 발견되면 계약자는 서면으로 그
진의를 질의하여야 하며, 의견의 차이가 있을 때에는 상호 협의하여 결정하도록 한다.

===== 3. 평가표.hwp =====
RF Sputter 규격 평가표

업체명 : 평가자 : (서명)

※ 1단계 통과기준 : 기술제안서 100점 만점 중 80점 이상을 득한 업체

구분 평가항목 등급 및 배점기준 비고 실적평가(12) - 최근 3년간 실적 해당분야 실적 1억원 이상 12 8천만원 9 5천만원 6 기 5천만원 미만 3 업 평 회사채에 대한 신용평가등급 기업어음에 대한 신용평가등급 기업신용평가등급 증빙 서류 BBB0 이상 A30 이상 BBB0 이상 8 가 제출 (20) 경영상태(8) BB- 이상 (BBB-, BB+, BB0, BB-) B0 이상 (A3-, B+, B0) BB- 이상 (BBB-, BB+, BB0, BB-) 6 B- 이상 (B+, B0, B-) B- B- 이상 (B+, B0, B-) 4 CCC+ 이하 C 이하 CCC+ 이하 2 소 계 점 기술적 적합도 배점(총 50점) 점수 기 - 기술적 적합성(25) 25 20 15 10 0 술 - 기술적 수준(25) 25 20 15 10 0 능 력 공급자의 역량 배점(총 10점) 점수 평 가 (100) 제 - 유지보수 및 사후관리(5) 5 4 3 2 1 품 기 - 기술지원 능력(5) 5 4 3 2 1 술 평 장비의 편의성 배점(총 20점) 점수 가 (80) - 설치 및 공정 연계 적합성(10) 10 8 6 4 0 - 유지 관리의 편의성(10) 10 8 6 4 0 소 계 점 합 계 점

🏛 나라장터 원문 공고

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